特許
J-GLOBAL ID：200903062829570379
位相シフトマスクブランク及びその製造方法並びに位相シフトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-319900
公開番号（公開出願番号）：特開平6-167803
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：
【要約】【目的】 露光装置に良好に保持でき、かつ、基板に形成した膜にクラックが生じたり膜剥離が生じてごみを発生したりするおそれのない位相シフトマスクブラク及びその製造方法並びに位相シフトマスクを提供する。【構成】 透明基板1上の周縁部に位相シフト膜の存在しない露出部を形成し、少なくともこの露出部及び該露出部の近傍の位相シフト膜20の上に、透明基板1に対する付着力が位相シフト膜20に比較して大きい性質を有する剥離防止膜30を形成するようにした。
請求項（抜粋）：
透明基板上に、被転写体に微細パターン露光を施すための微細パターンが形成され、かつ、該微細パターン中には該微細パターンを通過する光の一部の位相をシフトさせる位相シフト部が設けられた位相シフトマスクを製造する際に用いられる素材であって、透明基板上に前記位相シフト部を形成するための部材たる位相シフト膜を設けた位相シフトマスクブランクにおいて、前記透明基板上の周縁部に位相シフト膜の存在しない露出部を形成し、少なくともこの露出部及び該露出部の近傍の位相シフト膜の上に、前記透明基板に対する付着力が前記位相シフト膜に比較して大きい性質を有する剥離防止膜を形成したことを特徴とする位相シフトマスクブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
