特許
J-GLOBAL ID：200903062832188655
ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小栗 昌平 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-354710
公開番号（公開出願番号）：特開2001-174998
出願日： 1999年12月14日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 高感度、高解像力を有し、しかも矩形形状を有するフォトレジストを与えるポジ型フォトレジスト組成物を提供する。しかも、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが少なく、ポジ型フォトレジスト組成物に優れた特性を付与することができるポリシロキサンを提供する。【解決手段】 少なくとも式(I)が示す構造単位を有するアルカリ可溶性ポリシロキサンを含有する。原則として、上記のポリシロキサンと露光により分解して酸を発生する化合物と、分子内に含まれるフェノール性水酸基が、酸により分解する基で部分的あるいは完全に保護されたフェノール性化合物とを含有する。分子内に含まれるカルボキシル基が、酸により分解する基で部分的あるいは完全に保護された芳香族もしくは脂肪族カルボン酸化合物を含有していてもよい。例えば
請求項（抜粋）：
下記(I)で示される構造単位を有するアルカリ可溶性ポリシロキサンを含有する事を特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】Lは-A-NHCO-、-A-NHCOO-、- A-NHCONH-から選択される2価の連結基を表す。Aは単結合又アルキレン基またはアリーレン基を表す。Xは単結合または2価の連結基を表す。Zは【化2】で表されるいずれかの一価の基を表す。Yは水素原子を表す。又はYは、アルキル基、アリール基あるいはアラルキル基を表す。Yが示す原子団は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。lは1〜3の整数を表す。mも1〜3の整数を表す。
IPC (5件)：
G03F 7/075 511
, C08L 83/08
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
, H05K 3/06
G03F 7/075 511
, C08L 83/08
, G03F 7/039 501
, H05K 3/06 H
, H01L 21/30 502 R
