特許
J-GLOBAL ID:200903062835003907
ポジ型感光性組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
萩野 平 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-273266
公開番号(公開出願番号):特開2000-098614
出願日: 1998年09月28日
公開日(公表日): 2000年04月07日
要約:
【要約】【課題】 深紫外線、特にArFエキシマレーザー光に対して高い感度、解像力を有し、レジストプロファイルが優れるとともに、基板からの剥離が起こらないレジストパターンを形成し得る、標準現像液適性を備えたポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】 特定の構造のシクロペンタン環を有する構造単位を有し、且つ酸の作用により分解する重合体、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。
請求項(抜粋):
(a)下記一般式(I)又は/及び(II)で表される構造単位を有し、且つ酸の作用により分解する重合体、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。一般式(I)【化1】一般式(II)【化2】(式(I)及び(II)中、R1 、R2 は、各々独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、アルカリ可溶性基又は酸の作用により分解する基を示す。)
IPC (4件):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
FI (4件):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
Fターム (14件):
2H025AA09
, 2H025AA14
, 2H025AB15
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025CC03
, 2H025CC20
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