特許

J-GLOBAL ID：200903062854533828

透明導電体の製造方法およびそれを用いた透明導電性フイルム

発明者： 榊原 義夫 ,  品川 幸雄 ,  椋木 康雄 ,  中村 卓
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-028921
公開番号（公開出願番号）：特開平11-232939
出願日： 1998年02月10日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：

【要約】【課題】低温(200°C以下)で透明導電性体を任意のパターンで簡便に形成する方法を提供する。【解決手段】透明基体上に、親水性または疎水性のフォトレジストのパターンを形成し、フォトレジストが親水性のときは導電性素材を含む親水性液体を、フォトレジストが疎水性のときは導電性素材を含む疎水性液体を用い、フォトレジスト上に優先的に導電性素材を付与することを特徴とする透明導電体の製造方法。

請求項（抜粋）：

透明基体上に、親水性または疎水性のフォトレジストのパターンを形成し、フォトレジストが親水性のときは導電性素材を含む親水性液体を、フォトレジストが疎水性のときは導電性素材を含む疎水性液体を用い、フォトレジスト上に優先的に導電性素材を付与することを特徴とする透明導電体の製造方法。

IPC (2件)：

H01B 13/00 503 ,  H01B 5/14

FI (2件)：

H01B 13/00 503 B ,  H01B 5/14 A