特許
J-GLOBAL ID：200903062857325371
シリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜の製造方法及び電子部品
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-052029
公開番号（公開出願番号）：特開2003-253204
出願日： 2002年02月27日
公開日（公表日）： 2003年09月10日
要約：
【要約】【課題】 低誘電性に優れると共に十分な機械強度を有しており、しかも、従来に比して低温及び/又は短時間で硬化させることが可能であり、且つ、接着性及び電気的信頼性を向上できるシリカ系被膜形成用組成物を提供する。【解決手段】 本発明のシリカ系被膜形成用組成物は、(a)成分としてアルコキシシラン等のシロキサン樹脂と、(b)成分としてそのシロキサン樹脂を溶解可能なアルコール等の溶媒と、(c)成分として、式(2);0<M<SB>OH</SB><0.4×10<SP>-2</SP> ...(2)、で表される関係を満たすようにヒドロキシル基を側鎖に含む重合体と、(d)成分としてアンモニウム塩等を含有して成る。なお、式中のM<SB>OH</SB>は重合体におけるヒドロキシル基の濃度(mol/g)を示す。
請求項（抜粋）：
(a)成分:下記式(1);R<SP>1</SP><SB>n</SB>SiX<SB>4-n</SB> ...(1)、(式中、R<SP>1</SP>は、H原子若しくはF原子、又はB原子、N原子、Al原子、P原子、Si原子、Ge原子若しくはTi原子を含む基、又は炭素数1〜20の有機基を示し、Xは加水分解性基を示し、nは0〜2の整数を示し、nが2のとき、各R<SP>1</SP>は同一でも異なっていてもよく、nが0〜2のとき、各Xは同一でも異なっていてもよい)、で表される化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、(b)成分:前記(a)成分を溶解可能な溶媒と、(c)成分:ヒドロキシル基を含む側鎖を有する重合体と、(d)成分:オニウム塩と、を備えており、前記(c)成分である重合体が、下記式(2);0<M<SB>OH</SB><0.4×10<SP>-2</SP> ...(2)、M<SB>OH</SB>:当該重合体における前記ヒドロキシル基の濃度(mol/g)、で表される関係を満たすものであるシリカ系被膜形成用組成物。
IPC (8件)：
C09D183/02
, C09D 1/00
, C09D 5/25
, C09D133/04
, C09D183/04
, C09D201/06
, H01L 21/312
, H01L 21/768
C09D183/02
, C09D 1/00
, C09D 5/25
, C09D133/04
, C09D183/04
, C09D201/06
, H01L 21/312 C
, H01L 21/90 Q
4J038AA011
, 4J038CG141
, 4J038CG142
, 4J038CH121
, 4J038CH122
, 4J038DL021
, 4J038DL022
, 4J038DL031
, 4J038DL032
, 4J038GA03
, 4J038GA06
, 4J038HA441
, 4J038JB11
, 4J038JC17
, 4J038JC29
, 4J038KA06
, 4J038NA11
, 4J038NA12
, 4J038NA21
, 4J038NA24
, 4J038PA19
, 4J038PB09
, 5F033HH11
, 5F033QQ48
, 5F033RR09
, 5F033RR25
, 5F033SS22
, 5F033WW03
, 5F033WW04
, 5F033XX03
, 5F033XX14
, 5F033XX24
, 5F033XX27
, 5F058AA08
, 5F058AA10
, 5F058AC03
, 5F058AD05
, 5F058AF04
, 5F058AG01
, 5F058AH02
, 5F058AH03
, 5F058BA10
, 5F058BA20
, 5F058BC05
, 5F058BD07
, 5F058BF46
, 5F058BH04
, 5F058BJ02
, 5F058BJ03
