特許

J-GLOBAL ID：200903062865383364

レジスト剥離剤組成物及びその使用方法

発明者： 西嶋 佳孝 ,  小谷 武
出願人/特許権者： ナガセ電子化学株式会社
代理人 (1件)： 塩出 真一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-252826
公開番号（公開出願番号）：特開平11-084687
出願日： 1997年09月02日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：

【要約】【課題】 半導体素子回路等の製造工程における配線形成時に生成するレジスト残渣を高性能で除去する。【解決手段】 アルキルアミン及びアルキルアンモニウム水酸化物の少なくともいずれかと水とプロピレングリコールモノメチルエーテルとを主成分とするレジスト剥離剤組成物。プロピレングリコールモノメチルエーテルの添加量を5.0〜70.0重量%とする。

請求項（抜粋）：

アルキルアミン及びアルキルアンモニウム水酸化物の少なくともいずれかと水とプロピレングリコールモノメチルエーテルとを主成分とすることを特徴とするレジスト剥離剤組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/308

FI (3件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/308 Z ,  H01L 21/30 572 B