特許

J-GLOBAL ID：200903062870607157

レーザ洗浄方法、レチクル基板の製造方法およびレーザ洗浄装置

発明者： 小原 隆
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-378427
公開番号（公開出願番号）：特開2002-182370
出願日： 2000年12月13日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：

【要約】【課題】 レチクル基板などの表面に付着した異物を除去する。【解決手段】 予め知得されている被洗浄物W表面の異物付着位置に所定量の液滴を滴下する滴下工程(S4)と、少なくとも前記液滴を蒸発可能なエネルギを有するレーザ光Lを前記異物付着位置に照射して、前記異物を除去する工程(S6)とを備えることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被洗浄物表面の異物付着位置に所定量の液滴を滴下する滴下工程と、少なくとも前記液滴を蒸発可能なエネルギを有するレーザ光を前記異物付着位置に照射して、前記異物を除去する工程とを備えることを特徴とするレーザ洗浄方法。

IPC (5件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304 651

FI (5件)：

G03F 1/08 X ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/304 645 D ,  H01L 21/304 651 M ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (2件)：

2H095BB20 ,  2H095BB30