特許
J-GLOBAL ID:200903062872200046

エッチング装置及びエッチング方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 船橋 國則
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-128367
公開番号(公開出願番号):特開平11-330047
出願日: 1998年05月12日
公開日(公表日): 1999年11月30日
要約:
【要約】【課題】 フォーカスリング表面の堆積物がエッチング途中でウエハ上に剥がれ落ち、エッチングの形状精度を得ることができない。【解決手段】 下部電極3のウエハ載置面3aを底面にして、下部電極3の側周にフォーカスリング4を設けてなるエッチング装置において、フォーカスリング4の底面に冷却手段7を設けた。冷却手段7は、フォーカスリング4の底面に沿って密着配置された基材7a内に、フォーカスリング4の底面に沿って冷媒を循環させる冷媒管7bを内設してなるものである。これによって、フォーカスリング4の表面を冷却しながらエッチングを行うことが可能になり、フォーカスリング4表面の加熱によるフォーカスリング4表面からの堆積物aの剥離が防止される。
請求項(抜粋):
下部電極のウエハ載置面を底面にして、当該下部電極の側周にフォーカスリングを設けてなるエッチング装置において、前記フォーカスリングには、当該フォーカスリングの表面を冷却する冷却手段を設けたことを特徴とするエッチング装置。
IPC (2件):
H01L 21/3065 ,  C23F 4/00
FI (2件):
H01L 21/302 C ,  C23F 4/00 A

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