特許
J-GLOBAL ID：200903062875481461
光量制御方法、光量制御装置および画像処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木島 隆一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-267299
公開番号（公開出願番号）：特開2002-072376
出願日： 2000年09月04日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：
【要約】【課題】 自動焼き付け装置等での画像データに応じた光の照射光量の調整を短時間で行えるようにする。【解決手段】 1回目の走査ではヘッド全域を走査し、2回目以降の走査では、1回目の走査で検出されたピーク位置近辺のみを走査する。したがって、2回目以降は、ピーク位置近辺のみを走査するので、残りの照射領域を走査しない分だけ、測定にかかる時間を短縮することができる。
請求項（抜粋）：
画像データに応じた光を照射領域から媒体上へ照射して画像を上記媒体上に転送する処理における上記照射領域からの照射量の調整として、上記照射領域を走査して上記照射領域における光量を測定して照射ムラを求め、それに基づいて上記照射領域における部位ごとの照射量を調整する光量制御方法において、1回目は、上記照射領域の全体を走査し、2回目以降の走査においては、上記照射領域における光量測定値のピーク位置近辺のみを走査することを特徴とする光量制御方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03B 27/72 Z
, G03B 27/32 H
2H106AA76
, 2H106AB04
, 2H106BH00
, 2H110CD02
, 2H110CD18
