レーザ制御方泡レーザ装置、該レーザ装置を用いる露光装置、露光方泡及び該露光方法を用いる半導体装置製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-033543
公開番号（公開出願番号）：特開平11-289121
出願日： 1991年12月18日
公開日（公表日）： 1999年10月19日
要約：

【要約】【課題】パルス発振開始直後から所望のエネルギーのレーザ光が得られるレーザ制御装置および加工装置を提供する。【解決手段】パルス発振開始直後のレーザ光のパルスエネルギー変動現象を抑えるために、そのパルス発振開始直後からパルス発振毎に放電電圧を制御する。

請求項（抜粋）：

放電電圧を調整することによって、パルス発振されるレーザ光のエネルギーを制御するレーザ装置において、レーザ光をパルス発振するレーザ本体と、該レーザ本体からレーザ光をパルス発振させるための放電電圧を供給する電圧供給手段と、前記パルス発振を開始した直後のレーザ光のエネルギー変動現象を抑えるために、そのパルス発振開始直後からパルス毎に放電電圧を制御する制御手段と、を備えることを特徴とするレーザ装置。

IPC (3件)：

H01S 3/104 , B23K 26/00 , H01S 3/097

FI (3件)：

H01S 3/104 , B23K 26/00 M , H01S 3/097 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

特開昭63-241925

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