特許
J-GLOBAL ID：200903062881215382
めっき装置及びめっき方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
熊谷 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-194920
公開番号（公開出願番号）：特開2001-020091
出願日： 1999年07月08日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
要約：
【要約】【課題】 被めっき基板表面とめっき液の相対速度を増加することにより、全面均一なめっき皮膜を形成し、高速めっきが可能になるめっき装置及びめっき方法を提供する。【解決手段】 基板回転保持手段50に保持された被めっき基板Wの被めっき面をめっき槽10内のめっき液に接触させるとともに、被めっき基板Wに対向するように陽極電極30を設置する。めっき液供給管15からめっき槽10内に供給されるめっき液を、めっき槽10の中心から偏心した向きに向かうようにすることで、被めっき基板Wと陽極電極30の間のめっき液に、被めっき基板Wの回転方向とは逆向きの旋回流を発生させる。めっき液の流れと被めっき基板の回転がプラスされて被めっき基板の被めっき面におけるめっき液の相対速度を高める。
請求項（抜粋）：
基板回転保持手段に保持された被めっき基板の被めっき面をめっき槽内のめっき液に接触させるとともに、前記被めっき基板に対向するように陽極電極を設置してなるめっき装置において、被めっき基板と陽極電極の間のめっき液に、被めっき基板の回転方向とは逆向きの旋回流を発生させる手段を設けたことを特徴とするめっき装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (8件)：
4K024AA09
, 4K024BA15
, 4K024BB11
, 4K024BC10
, 4K024CA10
, 4K024CB11
, 4K024CB15
, 4K024GA02
