特許
J-GLOBAL ID：200903062882510434
生産システム管理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-275335
公開番号（公開出願番号）：特開平7-169662
出願日： 1993年11月04日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：
【要約】【目的】半導体装置の生産システム管理方法において、製造指令データ作成時におけるデータ入力工数の低減し入力におけるデータ入力ミスの防止を図るとともに入力ミスに伴なう不良発生を防止する。【構成】リソグラフィ工程のように繰返して行なう工程とこの工程の前後および工程間に行なわれる複数の工程で構成される工程フローパターンを定形化して複数の製造手順テンプレート1,2〜mに分類して登録する製造手順データベース1と、製造手順テンプレート1,2〜mの各工程に対応する製造設備名および製造条件を登録する製造条件データベース2と、繰返して行なわれる工程で使用される治具を登録する治具条件データベース3とを設け、半導体装置の製品コードで指定する製造手順テンプレートを抽出し、抽出された製造手順テンプレートの各工程毎に製造条件を対応してデータ合成し、さらに、繰返して行なわれるリソグラフィ工程で使用されるマスクを指定し製造指令スケジュールを自動的に設定する。
請求項（抜粋）：
各製品に対する製造手順データを示すそれぞれの工程フローを複数のパターンに定形化し登録する製造手順データベースと、これら定形化された工程フローの各工程で使用される設備の装置名と製造条件を分類作成し登録した製造条件データベースと、前記工程フローの中で繰返して行なわれる工程で使用する治具を登録する治具条件データベースとを備え、製造すべき半導体装置の製品コードを入力する毎に、前記製造手順データベースと前記製造条件データベースおよび治具条件データベースより順次抽出し定形化された該半導体装置の工程フローに対応する製造条件データと治具条件データを組付けて製造指令データを作成することを特徴とする生産システム管理方法。
IPC (4件)：
H01L 21/02
, G06F 9/44
, G06F 17/60
, B23Q 41/08
