特許

J-GLOBAL ID：200903062886745991

ポジ型フオトレジスト組成物

発明者： 河辺 保雅 ,  丹 史郎 ,  佐藤 健一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-063858
公開番号（公開出願番号）：特開平7-271022
出願日： 1994年03月31日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：

【要約】【目的】 高解像力で且つ解像力の膜厚依存性が小さく、現像ラチチュードが広くて且つ現像残渣が発生しにくく、更に、経時による感光剤の析出、ミクロゲルの発生がない、即ち、パーティクルの増加が認められない極めて優れた保存安定性を有するポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂及び下記一般式(I)で表される構造を有するポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルを含有するポジ型フオトレジスト組成物。【化1】

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂及び下記一般式(I)で表される構造を有するポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルを含有することを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】ここで、Y:-SO2-もしくは-SO2-Z-SO2-、Z:アルキレン基、R1,R2:同一でも異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基もしくはアルコキシ基、R3〜R6:同一でも異なっても良く、水素原子、アルキル基もしくはアリール基、m,n,o,m’,n’:1〜3の整数、を表す。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027