基板洗浄方法および基板洗浄装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-261241
公開番号（公開出願番号）：特開平11-102881
出願日： 1997年09月26日
公開日（公表日）： 1999年04月13日
要約：

【要約】【課題】洗浄装置の簡略化および洗浄時間の短縮化を図ることができ、かつ、基板の損傷を与えることなく効果的に洗浄できる基板洗浄方法を提供する。【解決手段】電気絶縁性の砥粒Pを洗浄液中に含ませ、洗浄液を超音波洗浄槽1内でポンプ7により循環させる。超音波振動子9から超音波を発振し、砥粒Pを基板上で振動させて基板上のパーティクルを除去する。

請求項（抜粋）：

電気絶縁性の砥粒を含む洗浄液中で超音波を発振して、砥粒を振動させて半導体基板を洗浄することを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , B08B 3/12

FI (2件)：

H01L 21/304 341 M , B08B 3/12 A

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