特許
J-GLOBAL ID：200903062894352940
応力測定方法および応力測定装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西村 竜平
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2003003037
公開番号（公開出願番号）：WO2003-076888
出願日： 2003年03月13日
公開日（公表日）： 2003年09月18日
要約：
試料に外力をかける外力印加工程と、試料に電子線を照射する照射工程と、上記照射工程により試料から発生する光を分光してスペクトルを得る分光工程と、上記試料に電子線を照射することにより得られる試料スペクトルと、上記外力印加工程により応力が存在している状態の試料に電子線を照射することにより得られる応力印加スペクトルとのスペクトルシフトから応力を求める応力算出工程を含む方法である。
請求項（抜粋）：
試料に電子線を照射する電子線照射工程と、
上記電子線照射工程により試料から発生する光を分析してスペクトルを得る分光工程と、
所定状態での試料から得られるスペクトルと、その所定状態とは異なる状態での試料から得られるスペクトルとのスペクトルシフトからその試料に生じている応力変化を求める応力算出工程とを含むことを特徴とする応力測定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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