特許
J-GLOBAL ID:200903062903570572
セラミックヒータ、セラミックヒータの製造方法およびセラミックヒータの製造システム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
安富 康男 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-229791
公開番号(公開出願番号):特開2002-043031
出願日: 2000年07月28日
公開日(公表日): 2002年02月08日
要約:
【要約】【課題】 セラミック基板上に形成する抵抗発熱体の抵抗値(抵抗率)を正確に制御することができ、セラミックヒータとして使用する場合、セラミック基板の加熱面の温度を均一化することができるセラミックヒータの製造方法を提供すること。【解決手段】 セラミック基板表面の所定領域に波状に線幅が変わる抵抗発熱体パターンを形成した後、前記抵抗発熱体パターンの一部をトリミングすることを特徴とするセラミックヒータの製造方法。
請求項(抜粋):
セラミック基板上に波状に線幅が変わる抵抗発熱体パターンを形成したセラミックヒータであって、前記抵抗発熱体にトリミングが施されてなることを特徴とするセラミックヒータ。
IPC (4件):
H05B 3/10
, H05B 3/16
, H05B 3/20 393
, H05B 3/68
FI (5件):
H05B 3/10 A
, H05B 3/10 C
, H05B 3/16
, H05B 3/20 393
, H05B 3/68
Fターム (38件):
3K034AA02
, 3K034AA03
, 3K034AA06
, 3K034AA08
, 3K034AA10
, 3K034AA21
, 3K034AA22
, 3K034AA27
, 3K034AA34
, 3K034AA37
, 3K034BB06
, 3K034BB14
, 3K034BC12
, 3K034BC29
, 3K034DA04
, 3K034DA08
, 3K034HA01
, 3K034HA10
, 3K034JA01
, 3K034JA02
, 3K092PP20
, 3K092QB02
, 3K092QB04
, 3K092QB17
, 3K092QB18
, 3K092QB44
, 3K092QB45
, 3K092QB74
, 3K092QB76
, 3K092RF03
, 3K092RF11
, 3K092RF17
, 3K092RF22
, 3K092UA05
, 3K092UA17
, 3K092UA18
, 3K092UC07
, 3K092VV22
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