特許

J-GLOBAL ID：200903062906864232

位置ずれ計測方法及びそれを用いた位置ずれ計測装置

発明者： 森 哲三 ,  長谷川 敬恭 ,  松本 隆宏 ,  千徳 孝一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-237663
公開番号（公開出願番号）：特開平8-124847
出願日： 1995年08月23日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：

【要約】【課題】 半導体基板上に微細な回路パターンを重ね焼き付けをしたパターン同士の位置ずれを計測する際、レーザー光源にドリフト性変動が残っている場合においても、高精度で安定して計測値が得られる位置ずれ計測方法及びそれを用いた位置ずれ計測装置を達成すること。【解決手段】 回折格子状のアライメントマークを用いて、2つのアライメントマークで構成される計測マークの位置ずれとしてヘテロダイン干渉法によって計測する際、計測装置上に安定度モニタ用マークを設け、半導体基板上に参照マークを設け、該安定度モニタ用マークを計測して、その計測値から光源の安定度を判定し、該光源の安定度に応じて該安定度モニタ用マーク及び該参照マークの計測頻度を決定し、該参照マークの計測値を使用して該計測マークの計測値を補正することを特徴とする位置ずれ計測方法。

請求項（抜粋）：

半導体基板上に回路パターンと共に回折格子で構成されるアライメントマークを重ね焼きした回路パターンの位置ずれを2つのアライメントマークで構成される計測マークの位置ずれとしてヘテロダイン干渉法によって計測する際、位置ずれ計測装置上に相対的ずれ量が既知の2つの回折格子より構成される安定度モニタ用マークを設け、該半導体基板上に相対的ずれ量が既知の2つの回折格子より構成される参照マークを設け、該安定度モニタ用マークを計測して、その計測値から光源の安定度を判定し、該光源の安定度に応じて該安定度モニタ用マーク及び該参照マークの計測頻度を決定し、該参照マークの計測値を使用して該計測マークの計測値を補正することを特徴とする位置ずれ計測方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 9/00

FI (2件)：

H01L 21/30 525 L ,  H01L 21/30 525 M