特許
J-GLOBAL ID:200903062907081517
露光方法及び露光装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
前田 均 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-071572
公開番号(公開出願番号):特開2001-358062
出願日: 2001年03月14日
公開日(公表日): 2001年12月26日
要約:
【要約】【課題】 走査方向に直交する方向のみならず、走査方向に沿う方向にもシームレスなつなぎ露光を実現できるようにすることである。【解決手段】 レチクルRiと基板4とを同期して移動しつつスリット状の照明光ILで照射してレチクルRiに形成されたパターンの像を基板4上に逐次転写する露光方法において、レチクルRiの移動に同期して、照明光ILの照度分布を除々に減少させる減衰部を有する濃度フィルタFjを移動する。
請求項(抜粋):
マスクと感応物体とを同期して移動しつつスリット状のエネルギービームで照射して該マスクに形成されたパターンの像を該感応物体上に逐次転写するようにした露光方法であって、前記マスクの移動に同期して、前記エネルギービームのエネルギー量を除々に減少させる減衰部を有する濃度フィルタを移動する工程を含むことを特徴とする露光方法。
IPC (2件):
FI (4件):
G03F 7/22 H
, H01L 21/30 516 D
, H01L 21/30 515 D
, H01L 21/30 518
Fターム (8件):
5F046BA05
, 5F046CA04
, 5F046CB08
, 5F046CB15
, 5F046CB23
, 5F046CC14
, 5F046DA02
, 5F046DA03
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