特許
J-GLOBAL ID：200903062914488371
透明導電膜の熱処理方法および透明導電膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-305973
公開番号（公開出願番号）：特開平5-144334
出願日： 1991年11月21日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【目的】この発明は、基板に形成された透明導電膜の抵抗率を低くすることができる透明導電膜の熱処理方法および抵抗率の低い透明導電膜を提供することを目的とする。【構成】ガラス基板3に形成された透明導電膜2を、高真空雰囲気もしくは不活性ガス雰囲気の処理チャンバ21内において所定温度で所定時間アニ-リングすることを特徴とする透明導電膜の熱処理方法およびその熱処理方法によって得られた透明導電膜を特徴とする。
請求項（抜粋）：
基板に形成された透明導電膜を、高真空雰囲気のチャンバ内において所定温度で所定時間アニ-リングすることを特徴とする透明導電膜の熱処理方法。
IPC (3件)：
H01B 13/00 503
, G02F 1/1343
, H01B 5/14
