特許
J-GLOBAL ID：200903062923495429
ヘアトリートメント用組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-517855
公開番号（公開出願番号）：特表平11-514660
出願日： 1996年11月06日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：
【要約】本発明は、調髪用ポリマーおよび式(I):[A-(X)n]n-・[HmB]m+(式中、A、X、B、nおよびmは、明細書中に記載された意味を有する)で示される塩を含有するヘアトリートメント用組成物が記載されている。本発明によれば、ヘアトリートメント用組成物により、改善されたすすぎ洗い性、なめらかさおよび光沢が得られ、かつ削減されたVOC含量で製造することができる。
請求項（抜粋）：
ヘアトリートメント用組成物において、 A.少なくとも1種の水溶性または水分散性の調髪用ポリマーおよび B.式I: [A-(X)n]n-・[HmB]m+ 〔式中、Aは、化粧品に認容性の脂肪族基、脂環式基または芳香族基であり、前記の基は、1個、2個または3個の置換基を有していてもよく、該置換基は、同一であるかまたは異なっていてもよく、かつC1〜C6-アルキル、C1〜C6-アルコキシ、モノヒドロキシ-C1〜C6-アルキルまたはポリヒドロキシ-C1〜C6-アルキル、ヒドロキシルおよびアミノであってもよく、この場合、脂肪族基の連鎖については、30個までの-CONH基で中断されていてもよく、脂環式基の環については、1個の-CO-N基を有していてもよく、2個の脂環式基を有する場合には、それぞれ、C2〜C8-アルキレン基またはp-キシリレン基を介して窒素原子と結合していてもよく; Xは、カルボキシレート基、スルホネート基、ホスフェート基またはホスホネート基であり; Bは、化粧品に認容性のアミン塩基であり; nは、1〜30であり;かつ mは、アミンBの原子価である〕で示される水溶性または水分散性の塩からなることを特徴とする、ヘアトリートメント用組成物。
引用特許：
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