特許

J-GLOBAL ID：200903062923957821

光記録媒体の製造方法、フォーマット方法および光記録媒体

発明者： 渡辺 修 ,  中西 俊晴
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-148153
公開番号（公開出願番号）：特開平8-007343
出願日： 1994年06月29日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 初期化処理を高速化しても記録、消去特性が良好で、繰り返し特性が安定した光記録媒体が得られる製造方法を提供する。また、記録、消去特性が良好で、繰り返し特性が安定した光記録媒体が得られるフォーマット方法を提供する。【構成】 基板上に形成された記録層に光を照射することによって、情報の記録、消去および再生が可能であり、情報の記録および消去が、非晶相と結晶相の間の相変化により行われる光記録媒体を製造する際、光を照射して前記光記録媒体の記録層を非晶質状態から結晶状態に変える初期化処理を行った後、記録パワーレベルが最適記録パワー以下の値であってかつ消去パワーレベルが最適消去パワーより高い値であるパワーでオーバライトすることを特徴とする光記録媒体の製造方法ならびに、フォーマット方法およびかかる製造方法およびフォーマット方法によりオーバーライトされたことを特徴とする光記録媒体。

請求項（抜粋）：

基板上に形成された記録層に光を照射することによって、情報の記録、消去および再生が可能であり、情報の記録および消去が、非晶相と結晶相の間の相変化により行われる光記録媒体を製造する際、光を照射して前記光記録媒体の記録層を非晶質状態から結晶状態に変える初期化処理を行った後、記録パワーレベルが最適記録パワー以下の値であってかつ消去パワーレベルが最適消去パワーより高い値であるパワーでオーバライトすることを特徴とする光記録媒体の製造方法。

IPC (4件)：

G11B 7/26 ,  G11B 7/00 ,  G11B 20/18 501 ,  G11B 20/18