特許
J-GLOBAL ID:200903062928513670

ポジ型レジスト組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小栗 昌平 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-277862
公開番号(公開出願番号):特開2002-090991
出願日: 2000年09月13日
公開日(公表日): 2002年03月27日
要約:
【要約】【課題】 解像力、現像性に優れ、とりわけ孤立パターン飛びが抑制された優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂、1,2-キノンジアジド化合物、及び特定のフルオロ脂肪族化合物から導かれたフルオロ脂肪族基を側鎖に有する高分子化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
請求項(抜粋):
アルカリ可溶性樹脂、1,2-キノンジアジド化合物、及びテロメリゼーション法もしくはオリゴメリゼーション法により製造されたフルオロ脂肪族化合物から導かれたフルオロ脂肪族基を側鎖に有する高分子化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (7件):
G03F 7/004 504 ,  C08K 5/28 ,  C08L101/00 ,  C08L101/04 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/032 ,  H01L 21/027
FI (7件):
G03F 7/004 504 ,  C08K 5/28 ,  C08L101/00 ,  C08L101/04 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/032 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (27件):
2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB52 ,  2H025CC04 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J002BC11X ,  4J002BC12W ,  4J002BG08X ,  4J002BG13X ,  4J002BQ00W ,  4J002CC03W ,  4J002CF12X ,  4J002CH02X ,  4J002EQ036 ,  4J002GP03

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