特許
J-GLOBAL ID：200903062934709854
MgOターゲット及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-285211
公開番号（公開出願番号）：特開平10-130827
出願日： 1996年10月28日
公開日（公表日）： 1998年05月19日
要約：
【要約】【課題】 スパッタ法によるAC型PDPのMgO保護膜の成膜に好適な高純度・高密度MgOターゲットを提供する。【解決手段】 平均結晶粒径が60μm以下で、粒内に平均粒径2μm以下の丸みを帯びた気孔が存在している微構造を有する、高純度・高密度MgO焼結体よりなる、スパッタ成膜速度1000Å/min以上に対応可能なMgOターゲット。高純度MgO粉末に、平均粒径100nm以下のMgO微粉末を1〜5重量%とバインダーを添加、混合して成形・脱脂した後、1250〜1350°Cで一次焼結し、次いで1500°C以上で二次焼結する。【効果】 MgO微粉末の配合及び二段焼結により、高純度・高密度MgO焼結体を製造できる。良好な配向性、結晶性及び膜特性を有するMgO膜を、スパッタ法により高い成膜速度で成膜できる。
請求項（抜粋）：
MgO純度99.9%以上、相対密度99%以上のMgO焼結体よりなるMgOターゲットであって、平均結晶粒径が60μm以下で、結晶粒内に平均粒径2μm以下の丸みを帯びた気孔が存在している微構造を有し、スパッタ成膜速度1000Å/min以上に対応可能なMgOターゲット。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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