特許
J-GLOBAL ID：200903062959506176
ウエットエッチング処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-205015
公開番号（公開出願番号）：特開平7-058078
出願日： 1993年08月19日
公開日（公表日）： 1995年03月03日
要約：
【要約】【目的】 ウエハ全面にエッチング液を接しさせて、ウエハを均一にエッチングする。【構成】 エッチング液11としての燐酸をオーバーフロー槽1に入れる。その外槽の燐酸を、吐出口7から循環用配管5を通じてポンプ3で内槽へ循環させる。燐酸をヒーター6で熱して、温度コントローラー10で所定の温度に保持する。設定温度となったところで、ウエハ13をセットしたカセット14を槽内に入れる。このカセット14を分散板2のカセット固定枠21上に置くと、ウエハ突き上げ板14によってウエハ13が持ち上がり、エッチング液がカセットの洗浄窓よりカセット14内に容易に流れ込む。また、窒素17をバブラー15を通じて槽の底部より内槽全体に均一にバブリングする。この窒素でウエハ13を揺動させることで、その全面にエッチング液11が確実に接する。
請求項（抜粋）：
オーバーフロー槽と、前記槽内のエッチング液を循環するポンプと、前記槽内のエッチング液を一定温度に加熱するヒーターと、前記温度を制御する温度コントローラーと、前記槽内の底部内に設けられた分散板にカセットを固定する枠と、前記槽内のエッチング液を窒素でバブリングするバブラーとを備えたことを特徴とするウエットエッチング処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/304
