特許

J-GLOBAL ID：200903062965029800

シリカガラス粉粒体及びその製造法

発明者： 政氏 晴生 ,  外山 景司 ,  江口 充 ,  樋口 一明 ,  酒井 正年
出願人/特許権者： 株式会社扶桑シルテック
代理人 (1件)： 松井 光夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-202844
公開番号（公開出願番号）：特開2000-016820
出願日： 1998年07月03日
公開日（公表日）： 2000年01月18日
要約：

【要約】【課題】 シリカガラス製品に加工した際に、シリカガラス製品中に気泡が生じず、従って、例えば単結晶シリコンの引上げ用ルツボとしての使用にあたってシリカの結晶欠陥を引起こす等の問題がなくかつ高温で変形するという欠点もない粉粒状シリカ及びその製造法を提供する。【解決手段】 赤外吸収スペクトルに基くOH基含有量が、シリカガラス粉粒体重量に対して100重量ppm以下(溶融ガラス化後の透過法赤外吸収スペクトルの2.6μm及び2.73μmの波長における透過率からベータ係数を算出して得た値である)であり、かつレーザーラマンスペクトルに基く4員環数/多員環数の比が、その面積比で0.0470以上であることを特徴とするシリカガラス粉粒体。

請求項（抜粋）：

赤外吸収スペクトルに基くOH基含有量が、シリカガラス粉粒体重量に対して100重量ppm以下(溶融ガラス化後の透過法赤外吸収スペクトルの2.6μm及び2.73μmの波長における透過率からベータ係数を算出して得た値である)であり、かつレーザーラマンスペクトルに基く4員環数/多員環数の比が、その面積比で0.0470以上であることを特徴とするシリカガラス粉粒体。

IPC (3件)：

C03B 20/00 ,  C03C 3/06 ,  H01L 21/22 501

FI (3件)：

C03B 20/00 F ,  C03C 3/06 ,  H01L 21/22 501 M

Fターム (7件)：

4G014AH04 ,  4G062AA10 ,  4G062BB02 ,  4G062CC05 ,  4G062MM02 ,  4G062MM27 ,  4G062MM40