シリカ多孔膜の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉村暁秀 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-108849
公開番号（公開出願番号）：特開2001-294419
出願日： 2000年04月11日
公開日（公表日）： 2001年10月23日
要約：

【要約】【課題】好ましくは抗体吸着による100nm前後の細孔径を有するシリカ多孔膜を得ることができるシリカ多孔膜の製造方法を提供する。【解決手段】セラミック基板上にポリシラザン、アクリルなどの樹脂及びキシレン等を溶媒とする混合液を塗布し、450°C以下の熱処理をすることにより、10〜40nmの大きさの細孔径を有するシリカ多孔膜を作る。ポリシラザン、樹脂及びキシレンなどの溶媒の混合比を変えることで細孔径を制御する。また、上記の混合液を塗布した直後にトリエチルアミン、トリメチルアミン等の触媒を用いることで100nm前後の細孔径を有するシリカ多孔膜を得る。

請求項（抜粋）：

基板上に、ポリシラザン、樹脂及び溶媒からなる混合液を塗布し、塗布した混合液を熱処理することにより、シリカ多孔膜を得ることを特徴とするシリカ多孔膜の製造方法。

IPC (2件)：

C01B 33/18 , B05D 7/24 302

FI (2件)：

C01B 33/18 C , B05D 7/24 302 Y

Fターム (17件)：

4D075BB24Z , 4D075CA50 , 4D075DB14 , 4D075DC30 , 4D075EB22 , 4D075EB42 , 4D075EC30 , 4G072AA25 , 4G072BB09 , 4G072BB15 , 4G072GG03 , 4G072HH28 , 4G072JJ47 , 4G072KK15 , 4G072LL15 , 4G072NN21 , 4G072UU30

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