特許
J-GLOBAL ID:200903063002011228
露光用マスクの製造方法およびそれを用いたカラーフィルターの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-035297
公開番号(公開出願番号):特開平8-234409
出願日: 1995年02月23日
公開日(公表日): 1996年09月13日
要約:
【要約】【目的】カラー液晶表示装置等に内装されるカラーフィルターの製造方法およびそれに用いる露光用マスクの製造方法に係わり、特に、TFT基板との整合性の良いカラーフィルターの製造方法に関する。【構成】カラーフィルターの製造方法において、TFT基板表面に形成されたパターンを読み取り、パターンデータとして変換する手段と、前記パターンデータから所望するパターンデータを抽出する手段と、前記抽出したパターンデータを、前記抽出時の位置関係を保ちつつ所望する別の形状のパターンデータに加工する手段と、前記加工後のパターンデータを描画用データに変換する手段と、前記描画用データを用い露光用マスクを作成する手段と、前記露光用マスクを用い透明基板上またはTFT基板上に遮光層および赤(R)、緑(G)、青(B)画素層を形成する手段とを具備したことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
請求項(抜粋):
遮光層およびカラーフィルター層の形成に用いられる露光用マスクの製造方法において、TFT基板表面に形成されたパターンを読み取り、パターンデータとして変換する手段と、前記パターンデータから所望するパターンデータを抽出する手段と、前記抽出したパターンデータを、前記抽出時の位置関係を保ちつつ所望する別の形状のパターンデータに加工する手段と、前記加工後のパターンデータを描画用データに変換する手段と、前記描画用データを用い露光用マスクを作成する手段とを具備したことを特徴とする露光用マスクの製造方法。
IPC (3件):
G03F 1/08
, G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
FI (3件):
G03F 1/08 A
, G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
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