特許

J-GLOBAL ID：200903063006601577

マスク

発明者： 森川 秀雄
出願人/特許権者： 有限会社 森川加工
代理人 (1件)： 岡田 英彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-186672
公開番号（公開出願番号）：特開平11-028255
出願日： 1997年07月11日
公開日（公表日）： 1999年02月02日
要約：

【要約】【課題】 マスクの着用感を向上させる。【解決手段】 横長の方形状の第1布片10と、横幅が第1布片10の横幅より小さくて縦長さが第1布片10の縦長さより大きい方形状の第2布片11とを重ね合わせ、第2布片11の上下端縁付近の突出部位を第1布片10の上下端縁の位置を折れ目として折り曲げて上下折り重ね部を形成し、この両折り重ね部の各端部を縫い目12によって1布片10に縫いつける。この状態で両折り重ね部を裏返しにし、顔面に線接触する上片3および下片4を成形し、反顔面側へ凹んだ立体形状を有するマスク本体1を形成する。

請求項（抜粋）：

マスク本体の上縁付近および下縁付近には、顔面側へ折り曲げられて顔面に線接触状態で接する上片および下片を形成してマスク本体の形状を反顔面側へ凹んだ立体形状に形成したことを特徴とするマスク。