特許

J-GLOBAL ID：200903063008938455

基板処理装置

発明者： 高橋 宏明
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-284254
公開番号（公開出願番号）：特開2000-114219
出願日： 1998年10月06日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：

【要約】【課題】 乾燥処理時に薬液が基板12に付着することを防止する。【解決手段】 液晶用の基板12を基板チャック13で保持し、同一のスピンカップ22内で、薬液処理、純水リンス、およびスピン乾燥処理を行う。基板12の乾燥は、基板12を高速回転するスピン乾燥方式を用いる。薬液を吐出する薬液処理時に、スピンカップ洗浄手段26から純水を吐出し、スピンカップ22内面に付着した薬液を洗浄する。スピンカップ22の内面に付着した薬液が乾燥処理時にミスト状に巻き上がり基板12に付着することを防止できる。

請求項（抜粋）：

基板を保持する保持手段と、前記基板に薬液を吐出する薬液ノズルと、前記基板に洗浄液を吐出する洗浄液ノズルと、前記基板を回転させる回転手段と、前記基板の外周部および底部を囲むスピンカップと、前記スピンカップの内面を洗浄するスピンカップ洗浄手段と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。