特許

J-GLOBAL ID：200903063023213114

露光装置及びマイクロデバイスの製造方法

発明者： 近藤 洋行
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 藤本 芳洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-195839
公開番号（公開出願番号）：特開2006-019510
出願日： 2004年07月01日
公開日（公表日）： 2006年01月19日
要約：

【課題】 光源部の集光鏡により極端紫外光が反射されることにより生じる集光鏡の構造に起因する反射光束の光強度分布の不均一を除去することができる露光装置を提供する。【解決手段】 極端紫外光を発生する光源20と、該光源から射出された極端紫外光を反射集光する集光鏡22とを有する光源部2を備え、該光源部から射出される極端紫外光を照明光としてマスクMを照明し、前記マスクのパターンを感光性基板W上に露光する露光装置において、前記集光鏡22の構造に起因して生成される不均一な反射光束の光強度分布を除去する除去手段28〜36を備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

極端紫外光を発生する光源と、該光源から射出された極端紫外光を反射集光する集光鏡とを有する光源部を備え、該光源部から射出される極端紫外光を照明光としてマスクを照明し、前記マスクのパターンを感光性基板上に露光する露光装置において、 前記集光鏡の構造に起因して生成される不均一な反射光束の光強度分布を除去する除去手段 を備えることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 531A ,  G03F7/20 503 ,  H01L21/30 517

Fターム (7件)：

2H097AA02 ,  2H097CA15 ,  2H097GB04 ,  2H097LA12 ,  5F046BA05 ,  5F046GB01 ,  5F046GB02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 照明装置、該照明装置を備えた露光装置および該露光装置を用いて半導体デバイスを製造する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-263673   出願人：株式会社ニコン