特許
J-GLOBAL ID：200903063032371733
プラズマエッチング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 英一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-291096
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142449
出願日： 1993年11月22日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】 ウェーハの周縁面のみをエッチングするのに好適なプラズマエッチング装置を提供する。【構成】 上下電極2,3の放電面12, 18をウェーハ9のエッチングすべき周縁面に合わせて制限するとともに、ウェーハ9のエッチングしない面内部に向けて不活性ガスを吹き付けるようにしたので、ウェーハの周縁面のみを選択的にエッチングすることを可能にする。
請求項（抜粋）：
ウェーハを上部電極と下部電極の間に載置してガス放電によってウェーハをエッチングするプラズマエッチング装置において、前記上部電極でのウェーハのエッチングすべき周縁面部分と対向する外側部分は反応ガスをプラズマ状に噴射する放電面とされ、かつそのウェーハの周縁面以外の内面側と対向する内側部分は不活性ガスを噴射して充満させる非放電部とされ、前記下部電極でのウェーハの周縁面部分と対向する外側部分は放電面とされ、かつそのウェーハの周縁面以外の内面側と対向する内側部分には絶縁性のあるサセプタが配設されることを特徴とするプラズマエッチング装置。
IPC (2件)：
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