特許
J-GLOBAL ID：200903063033715630
光学活性3-キヌクリジノールの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-128079
公開番号（公開出願番号）：特開2005-306804
出願日： 2004年04月23日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：
【課題】 光学純度の高い光学活性3-キヌクリジノールを収率よく製造できる方法を提供すること 【解決手段】3-キヌクリジノンを不斉水素化して、光学活性3-キヌクリジノールを製造する方法において、塩基化合物及び、触媒として下記一般式(1)で表されるルテニウム錯体を用いることを特徴とする光学活性3-キヌクリジノールの製造方法。 【化1】(式(1)中、Lは下記一般式(2) 【化2】(式(2)中、R1及びR2はそれぞれ独立して置換基を有していてもよいフェニル基を表す。)で表される光学活性ホスフィンを示し、Aは下記一般式(3) 【化3】(式(3)中、R3はアルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表し、R4は水素原子又は置換基を有してもよいフェニル基を表し、R5は置換基を有していてもよいフェニル基を表す。)で表される光学活性ジアミンを示す。)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
3-キヌクリジノンを不斉水素化して、光学活性3-キヌクリジノールを製造する方法において、塩基化合物及び触媒として、下記一般式(1)で表されるルテニウム錯体を用いることを特徴とする光学活性3-キヌクリジノールの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (16件)：
4C064AA06
, 4C064CC01
, 4C064DD01
, 4C064EE05
, 4C064FF01
, 4C064GG01
, 4C064HH05
, 4C064HH07
, 4H006AA02
, 4H006AC81
, 4H006BA23
, 4H006BA37
, 4H006BA48
, 4H006BE20
, 4H039CA60
, 4H039CB20
