特許

J-GLOBAL ID：200903063038012190

光学物品の製造方法

発明者： 鈴木 慶一
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-314488
公開番号（公開出願番号）：特開2009-139530
出願日： 2007年12月05日
公開日（公表日）： 2009年06月25日
要約：

【課題】耐久性の良好な防汚層を有する光学物品の製造方法を提供する。【解決手段】基材200の上に反射防止層を形成することと、ペレット59を用いた真空蒸着法により、反射防止層に重ねて防汚層を形成することとを有する製造方法を提供する。ペレット59は、フッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液に触媒を添加し、活性状態のフッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液を含浸した後、触媒の蒸発温度以上、フッ素含有有機ケイ素化合物の蒸発温度未満の温度範囲内で加熱処理されたものである。反応活性が適当な状態となったフッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液をペレット内に固定することができ、拭き耐久性の高い防汚層を成膜できる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材の上に有機または無機の反射防止層を形成することと、 ペレットを用いた真空蒸着法により、前記反射防止層に重ねて防汚層を形成することとを有する光学物品の製造方法であって、 前記ペレットは、 フッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液に触媒を添加し、活性状態の前記フッ素含有有機ケイ素化合物を含む前記防汚溶液を含浸した後、 前記触媒の蒸発温度以上、前記フッ素含有有機ケイ素化合物の蒸発温度未満の温度範囲内で加熱処理されたものである、光学物品の製造方法。

IPC (6件)：

G02B 1/10 ,  G02B 1/11 ,  G02B 3/00 ,  C23C 14/06 ,  B32B 7/02 ,  B32B 9/00

FI (6件)：

G02B1/10 Z ,  G02B1/10 A ,  G02B3/00 Z ,  C23C14/06 E ,  B32B7/02 103 ,  B32B9/00 Z

Fターム (39件)：

2K009AA02 ,  2K009BB00 ,  2K009CC42 ,  2K009DD03 ,  2K009EE05 ,  4F100AA20 ,  4F100AA21 ,  4F100AA27 ,  4F100AG00 ,  4F100AH05C ,  4F100AK01 ,  4F100AK52C ,  4F100AR00B ,  4F100AR00C ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100EH66C ,  4F100EJ42C ,  4F100GB71 ,  4F100JK12 ,  4F100JL06C ,  4F100JL08C ,  4F100JL11 ,  4F100JM02C ,  4F100JN06B ,  4F100YY00C ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029BA43 ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BA52 ,  4K029BB02 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029DB08 ,  4K029DB21 ,  4K029JA02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 防汚性光学物品の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-292211   出願人：セイコーエプソン株式会社