特許

J-GLOBAL ID：200903063056576816

有機EL素子の製造方法

発明者： 石田 泰三 ,  加藤 博道
出願人/特許権者： 株式会社デンソー
代理人 (1件)： 伊藤 洋二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-359837
公開番号（公開出願番号）：特開2002-164167
出願日： 2000年11月27日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：

【要約】【課題】 有機EL素子におけるレーザを用いた陰極のパターニング方法において、レーザの熱拡散を抑制し、陰極の加工精度を向上させる。【解決手段】 陰極のパターニングを、波長が100nm〜400nmの範囲であって且つ一回の発光時間が500ns以下の短パルスレーザを用いて行う。

請求項（抜粋）：

陽極(20)とパターニングされた陰極(40)との間に、有機発光材料よりなる発光層を含む有機層(30)を挟んでなる有機EL素子の製造方法において、前記陰極のパターニングを、波長が100nm〜400nmの範囲であって且つ一回の発光時間が500ns以下の短パルスレーザを用いて行うことを特徴とする有機EL素子の製造方法。

IPC (2件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (2件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

Fターム (8件)：

3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01