特許

J-GLOBAL ID：200903063060673796

純水製造方法及び装置

発明者： 浅川 友二
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 三浦 進二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-237864
公開番号（公開出願番号）：特開2000-061271
出願日： 1998年08月25日
公開日（公表日）： 2000年02月29日
要約：

【要約】【課題】 電気式脱イオン水製造装置の脱塩室内の被処理水中のシリカ等の弱酸性物質を効率的に濃縮室へ移動除去することができる純水製造方法及び装置を提供する。【解決手段】 脱塩室及び濃縮室を陽極と陰極の間に配置して構成される電気式脱イオン水製造装置により被処理水を脱イオンして純水を製造するに当たり、該脱塩室に充填するイオン交換樹脂をアニオン交換樹脂:カチオン交換樹脂=1:0〜0.35の体積比率とし、該電気式脱イオン水製造装置に供給する被処理水のシリカ濃度を500ppb以下、好ましくは50ppb以下とする。このような被処理水は、2段又は3段の逆浸透膜分離装置により上水、工業用水、井水等の原水又はその前処理水を供給水として分離処理して得られる第二又は第三透過水として得られる。2段又は3段の逆浸透膜分離装置により第二又は第三透過水を得るに当たって、アルカリ薬剤を添加しないのが好ましい。

請求項（抜粋）：

脱塩室及び濃縮室を陽極と陰極の間に配置して構成される電気式脱イオン水製造装置により被処理水を脱イオンして純水を製造するに当たり、該脱塩室に充填するイオン交換樹脂をアニオン交換樹脂:カチオン交換樹脂=1:0〜0.35の体積比率とし、該電気式脱イオン水製造装置に供給する被処理水のシリカ濃度を500ppb以下とすることを特徴とする純水製造方法。

IPC (3件)：

B01D 61/48 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/469

FI (3件)：

B01D 61/48 ,  C02F 1/44 J ,  C02F 1/46 103

Fターム (45件)：

4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006GA17 ,  4D006HA47 ,  4D006JA08A ,  4D006JA16A ,  4D006JA19A ,  4D006JA42A ,  4D006JA43A ,  4D006JA44A ,  4D006JA57A ,  4D006JA71 ,  4D006KA02 ,  4D006KA26 ,  4D006KA53 ,  4D006KA55 ,  4D006KA56 ,  4D006KA57 ,  4D006KA64 ,  4D006KA68 ,  4D006KB11 ,  4D006KB12 ,  4D006KE13P ,  4D006MA03 ,  4D006MA13 ,  4D006MA14 ,  4D006MB07 ,  4D006PA01 ,  4D006PB04 ,  4D006PB05 ,  4D006PB06 ,  4D006PB23 ,  4D006PC01 ,  4D006PC11 ,  4D006PC42 ,  4D061AA03 ,  4D061AB18 ,  4D061AC13 ,  4D061AC18 ,  4D061BA09 ,  4D061BB13 ,  4D061CA06 ,  4D061CA08 ,  4D061CA09