特許

J-GLOBAL ID：200903063070077687

ウェハプロセスの管理方法およびプロセス装置

発明者： 伊野 和英
出願人/特許権者： ローム株式会社
代理人 (1件)： 河村 洌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-303984
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110568
出願日： 2000年10月03日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：

【要約】【課題】 プロセスを行っているその場で(in situ)プロセスの異常を検出し得るようにし、直ちにフィードバックすることができるウェハプロセスの管理方法およびそれに用いるプロセス装置を提供する。【解決手段】 気体をチャンバ1内に導入し、そのチャンバ1内で前記気体を反応させることにより、チャンバ1内に配設される図示しないウェハ表面に処理を施す場合に、チャンバ1に質量分析器(QMS)2を取り付け、その質量分析器2によりチャンバ1内の特定元素の変化を測定することにより前記プロセスの状態を管理することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

気体をチャンバ内に導入し、該チャンバ内で前記気体を反応させることにより、前記チャンバ内に配設されるウェハ表面に処理を施すウェハプロセスの管理方法であって、該チャンバに質量分析器を取り付け、該質量分析器により該チャンバ内の特定元素の変化を測定することにより前記プロセスの状態を管理するウェハプロセスの管理方法。

IPC (4件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/52 ,  G01N 27/62 ,  H01L 21/3065

FI (5件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/52 ,  G01N 27/62 V ,  G01N 27/62 L ,  H01L 21/302 B

Fターム (19件)：

4K030AA06 ,  4K030AA14 ,  4K030BA44 ,  4K030FA01 ,  4K030HA16 ,  4K030KA39 ,  4K030LA15 ,  5F004AA16 ,  5F004CB04 ,  5F045AA08 ,  5F045AB32 ,  5F045AB35 ,  5F045AC01 ,  5F045AC11 ,  5F045AC18 ,  5F045BB08 ,  5F045GB04 ,  5F045HA13 ,  5F045HA25