特許
J-GLOBAL ID:200903063080804650

同位体比率プラズマ質量分析装置と方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大橋 邦彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-251993
公開番号(公開出願番号):特開平8-193978
出願日: 1995年09月04日
公開日(公表日): 1996年07月30日
要約:
【要約】【目的】 正確度が高い誘導給合プラズマ、あるいはマイクロ波誘導プラズマによる質量分析による同位体比率分析方法を提供し、同位体比率の測定に適した正確度が高い誘導結合プラズマ、あるいはマイクロ波誘導プラズマによる質量分析計を提供する。【構成】 本発明は、特に同位体比率の測定に適している誘導結合プラズマ質量分析方法と装置よりなる。この測定の精度を向上させるために、質量分析計のノズル-スキマー型のインターフェイスは、比率ds/s × √P1が0.8mB1/2以上になるように配置する。ただし、dsは上皮すくい取り部材の開口部の直径であり、sはサンプル抽出部材と上皮すくい取り部材の間の間隔であり、P1はサンプル抽出部材と上皮すくい取り部材の間の領域での圧力である。本発明を用いれば、インターフェイスの能率がわずかばかり低下するが、同位体比率の測定の精度が向上する。
請求項(抜粋):
a)上記のサンプルを導入結合プラズマあるいはマイクロ波導入プラズマの質量分析計により発生されたプラズマの中に入れる段階と、b)サンプル抽出部材の開口部を通じて、真空拡張領域の中で上記のプラズマのサンプルを抽出し、その結果、バレル・ショックとマッハ・ディスクで囲まれている静寂領域が上記のサンプル抽出部材の開口部の川下に生じる段階と、c)上記の静寂領域からの上皮すくい取り部材の開口部を通じて、少なくとも一部のイオンを上記の拡張領域の圧力よりも低い圧力を保っている第2の真空領域に入れる段階と、よりなる質量分析によるサンプルの同位体分析方法であって、0.8mB1/2よりも大きな値で、数式1の比率を維持することを特徴とし、dsは上記上皮すくい取り部材開口部の直径(mm)、sは上記のサンプル抽出部材の開講部の出口側と上記の上皮すくい取り部材の開口部の入り口側の間の距離(mm)、P1は上記の拡張領域で保たれる圧力(mB)である、質量分析によるサンプルの同位体分析方法。【数1】
IPC (2件):
G01N 27/62 ,  H01J 49/04

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