特許
J-GLOBAL ID：200903063081294531
改良されたスループットを有する真空処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-008703
公開番号（公開出願番号）：特開平6-244124
出願日： 1994年01月28日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：
【要約】【目的】 大型ガラス基板を連続的な単一基板処理チャンバ40、42、44、46内で処理することができ、加熱及び冷却の遅れ時間の問題を解決する、改良されたスループットを有する真空システムを得ることを目的とする。【構成】 複数のガラス基板の加熱及び冷却のためのバッチ処理を、単一基板用チャンバの処理に組み合わせるものであり、複数の単一基板処理チャンバ40、42、44、46並びに中央の移送チャンバ12に接続されたバッチ型の加熱チャンバ28及び冷却チャンバ14A、14Bを備えている。移送チャンバ12は、種々のチャンバ間で任意の予め選択された順序で基板を移送する。これにより、ガラス基板の加熱及び冷却のための適当な時間を許容しつつ、連続的ですばやい基板処理の流れが提供される。
請求項（抜粋）：
中に入れられた複数のガラス基板を支持し冷却する複数の棚を有する1または1を超える数のロードロック(load lock )/冷却チャンバ、複数のガラス基板を高温に加熱するための加熱チャンバ、前記ガラス基板上に薄膜を蒸着させるための1または1を超える数の単一基板用処理チャンバ、及びすべての前記チャンバにアクセスし、任意の前記チャンバにガラス基板を移送する自動化された手段を有する移送チャンバ、を備えた、ガラス基板上への単一基板用膜処理のための真空システム。
IPC (4件)：
H01L 21/205
, C23C 14/56
, H01L 21/203
, H01L 21/68
