電子装置の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-055166
公開番号（公開出願番号）：特開2003-255510
出願日： 2002年03月01日
公開日（公表日）： 2003年09月10日
要約：

【要約】【課題】ハーフトーン位相シフトマスクの製造TATを速め、コストを低減することによって、電子装置の開発、品種展開TATを速め、且つ電子装置の製造コストを低減する。【解決手段】ハーフトーン位相シフトマスクにおいて遮光用補助パターンを有機膜で形成する。

請求項（抜粋）：

開口部を有する半透明な位相シフトパターンと、前記開口部近傍に配置され、露光光に対して減光性或いは遮光性を備えた有機膜を主成分とする補助パターンとを有するハーフトーン位相シフトマスクを介して基板上にパターンを形成することを特徴とする電子装置の製造方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 A , G03F 1/08 D , G03F 1/08 G , H01L 21/30 502 P

Fターム (6件)：

2H095BB02 , 2H095BB03 , 2H095BB10 , 2H095BB36 , 2H095BC06 , 2H095BC09

引用特許：

審査官引用 (3件)

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