特許
J-GLOBAL ID:200903063086606000

断層面観測装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-230431
公開番号(公開出願番号):特開2003-043365
出願日: 2001年07月30日
公開日(公表日): 2003年02月13日
要約:
【要約】【課題】 観測対象内の複数の断層面を容易に、且つ同時に観測することのできる断層面観測装置を提供する。【解決手段】 観測対象(3)に対して集光される光を空間的に並列化させた光源(1)と、この光源(1)から出射した並列光が観測対象(3)内で結像する断層面(31)をそれぞれ異ならせる光学系(2)とを備える。
請求項(抜粋):
観測対象内の複数の断層面を観測する装置であって、観測対象に対して集光される光を空間的に並列化させた光源と、この光源から出射した並列光が観測対象内で結像する断層面をそれぞれ異ならせる光学系とが備えられていることを特徴とする断層面観測装置。
IPC (4件):
G02B 21/00 ,  G02B 3/00 ,  G02B 21/18 ,  G02B 21/36
FI (4件):
G02B 21/00 ,  G02B 3/00 A ,  G02B 21/18 ,  G02B 21/36
Fターム (11件):
2H052AA08 ,  2H052AB01 ,  2H052AB04 ,  2H052AB17 ,  2H052AC04 ,  2H052AC15 ,  2H052AC18 ,  2H052AC30 ,  2H052AC33 ,  2H052AC34 ,  2H052AF14

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