特許

J-GLOBAL ID：200903063102359604

粉体処理装置

発明者： 吉川 雅浩 ,  河渕 悟朗
出願人/特許権者： ホソカワミクロン株式会社
代理人 (1件)： 北村 修一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-295363
公開番号（公開出願番号）：特開2000-117082
出願日： 1998年10月16日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：

【要約】【課題】 被処理物の処理効率を向上させ得る粉体処理装置を提供する。【解決手段】 底部4bおよび底部4bの周縁部に立設した受け面7を有すると共に、鉛直方向に沿った回転軸心Xの回りに駆動回転自在な筒状回転体4と、筒状回転体4の内部に対して上方から垂下させた支持杆に設けられ、且つ、受け面7に近接するよう筒状回転体4の内部に配置されていて、筒状回転体4の回転に伴って被処理物1に作用するインナーピース5とを備えた粉体処理装置であって、被処理物1の堆積を防止する堆積防止手段Sを底部4bの中央部に備えてある。

請求項（抜粋）：

底部および前記底部の周縁部に立設した受け面を有すると共に、鉛直方向に沿った回転軸心の回りに駆動回転自在な筒状回転体と、前記筒状回転体の内部に対して上方から垂下させた支持杆に設けられ、且つ、前記受け面に近接するよう前記筒状回転体の内部に配置されていて、前記筒状回転体の回転に伴って前記被処理物に作用するインナーピースとを備えた粉体処理装置であって、前記被処理物の堆積を防止する堆積防止手段を前記底部の中央部に備えてある粉体処理装置。

IPC (3件)：

B01F 7/18 ,  B02C 2/10 ,  B02C 17/10

FI (3件)：

B01F 7/18 Z ,  B02C 2/10 A ,  B02C 17/10

Fターム (8件)：

4D063FF03 ,  4D063FF21 ,  4G078AA02 ,  4G078BA05 ,  4G078CA06 ,  4G078CA09 ,  4G078DA30 ,  4G078EA05