特許
J-GLOBAL ID:200903063120232840

EL素子の製造方法と製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 廣澤 勲
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-361326
公開番号(公開出願番号):特開2000-182767
出願日: 1998年12月18日
公開日(公表日): 2000年06月30日
要約:
【要約】【課題】 簡単な構成で製造が容易であり、微細な発光パターンを可能にしたEL素子の製造方法と製造装置を提供する。【解決手段】 透明な基板12の表面に透明な電極材料により所定のピッチでストライプ状となるように透明電極14を形成し、この透明電極14にEL材料からなる発光層20を真空薄膜形成技術により積層する。発光層20を形成する際、所定のピッチで緊張状態で基板12面上に配置された第一の単繊維26aと、基板12面に対して第一の単繊維26aと投影面が重複するように第一の単繊維26aに沿って配置されるとともに第一の単繊維26aよりも細い第二の単繊維26bと、基板12面に開口し第一と第二の単繊維26a,26bが緊張状態で固定されるマスク枠とを設け、この第一と第二の単繊維26a,26bによる蒸着マスク24を用いて、真空薄膜形成技術により薄膜層を形成する。
請求項(抜粋):
透明な基板表面に透明な電極材料により所定のピッチでストライプ状となるように透明電極を形成し、この透明電極にEL材料からなる発光層を真空薄膜形成技術により積層し、上記発光層の表面に、上記透明電極に対向し、直交する方向にストライプ状に所定のピッチに背面電極を形成するEL素子の製造方法において、ストライプ状のパターンを形成する際、所定のピッチで緊張状態で上記基板面上に配置された第一の単繊維と、上記基板面に対して上記第一の単繊維と投影面が重複するように上記第一の単繊維に沿って配置されるとともに、上記単繊維よりも細い第二の単繊維を設け、この第一と第二の単繊維によるマスクを用いて、真空薄膜形成技術により所定の材料の薄膜層を形成することを特徴とするEL素子の製造方法。
IPC (3件):
H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14
FI (3件):
H05B 33/10 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A
Fターム (13件):
3K007AB01 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CA01 ,  3K007CA02 ,  3K007CA05 ,  3K007CB01 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  3K007FA03

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