特許

J-GLOBAL ID：200903063126928359

レジストパターン形成方法及び複合リンス液

発明者： 越山 淳 ,  脇屋 和正 ,  金子 文武 ,  宮本 敦史 ,  田島 秀和 ,  澤田 佳宏
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2005007505
公開番号（公開出願番号）：WO2005-103832
出願日： 2005年04月20日
公開日（公表日）： 2005年11月03日
要約：

これまでのパターン倒れ防止方法とは全く異なった原理に基づくリンス処理により、形成しようとするパターンの物性をそこなうことなく、高品質の製品を製造する方法を提供する。すなわち、基板上に設けたホトレジスト層に像形成露光を施したのち、現像処理してレジストパターンを形成する方法において、現像処理後、レジストパターン表面上の接触液に対する接触角を40度以下に低下させる処理及び続いて70度以上に上昇させる処理を行ったのち、乾燥することによりレジストパターンを形成する。

請求項（抜粋）：

基板上に設けたホトレジスト層に像形成露光を施したのち、現像処理してレジストパターンを形成する方法において、現像処理後、レジストパターン表面上の接触液に対する接触角を40度以下に低下させる処理及び続いて70度以上に上昇させる処理を行ったのち、乾燥することを特徴とするレジストパターン形成方法。

IPC (3件)：

G03F 7/40 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/40 ,  G03F7/32 501 ,  H01L21/30 569E

Fターム (7件)：

2H096AA25 ,  2H096GA09 ,  2H096GA18 ,  2H096HA02 ,  2H096JA04 ,  5F046LA12 ,  5F046LA18