特許
J-GLOBAL ID：200903063135329441
光導波路作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 博光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-143081
公開番号（公開出願番号）：特開平8-334641
出願日： 1995年06月09日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：
【要約】【目的】 基板上に光導波路を作製する際の解像度の低下を防止できると共に、パターニングプロセス数を大幅に削減でき、さらに、コア膜上にレジストを塗布しなくても導波路をコア膜に形成できる光導波路作製方法を提供する。【構成】 アンダークラッド膜22とコア膜24が成膜された基板20をX-Yステージ18上に載置・固定し、紫外領域のレーザー光10をレンズ16で集光して前記基板20のコア膜24上に照射する。この照射において、ミラー14の揺動およびX-Yステージ18の移動により前記コア膜24に目標の光導波路パターンに沿って紫外領域レーザー光10を前記コア膜24に照射する。この紫外領域レーザー光10の照射により、コア膜24の照射部分には、光化学反応(光誘起)で屈折率の変化を生じさせて、紫外領域のレーザー光10の照射を受けた部分の屈折率を高くして、当該照射部分に光導波路を形成する。
請求項（抜粋）：
基板型光導波路を作製する方法において、基板上にSiO2からなるコア材料層を積層し、前記コア材料層の積層された基板を焼結してガラス化したコア膜を形成し、前記コア膜に目標の光導波路パターンに沿って紫外領域光を照射して、紫外領域光の照射部分に対して光化学反応により屈折率を変化させることによって、当該照射部分に光導波路を形成することを特徴とする光導波路作製方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 M
, G02B 6/12 N
