特許

J-GLOBAL ID：200903063135886936

フォトニック結晶多層基板およびその製造方法

発明者： 山田 博仁
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 高橋 詔男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-204198
公開番号（公開出願番号）：特開2002-022981
出願日： 2000年07月05日
公開日（公表日）： 2002年01月23日
要約：

【要約】【課題】 本発明の目的は、従来技術としてのフォトニック結晶光回路の欠点を克服し、光回路および光配線の多層化により高密度集積を実現する新しいフォトニック結晶光回路の形態と、その製造方法を提供する。【解決手段】 光の波長程度の大きさで屈折率が2次元或いは3次元周期的に変調された構造を有するフォトニック結晶からなるフォトニック結晶層3、4と、その平均屈折率が前記フォトニック結晶層3、4の材料の平均屈折率よりも小さい値を有する材料からなるクラッド層2a、2bで挟み込むことにより、フォトニック結晶層3、4をコアとするスラブ導波路型フォトニック結晶構造を形成し、該スラブ導波路型フォトニック結晶構造を厚さ方向に複数積層したことを特徴とするフォトニック結晶多層基板およびその製造方法。

請求項（抜粋）：

光の波長程度の大きさで屈折率が2次元或いは3次元周期的に変調された構造を有するフォトニック結晶からなるフォトニック結晶層と、前記フォトニック結晶とは屈折率が異なる材料からなるクラッド層とを有し、前記フォトニック結晶層を前記クラッド層で挟み込んだスラブ導波路型のフォトニック結晶構造を備え、前記フォトニック結晶構造が、厚さ方向に複数積層されていることを特徴とするフォトニック結晶多層基板。

IPC (2件)：

G02B 6/12 ,  G02B 6/42

FI (3件)：

G02B 6/42 ,  G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 N

Fターム (10件)：

2H037BA02 ,  2H037CA36 ,  2H037DA03 ,  2H037DA06 ,  2H047KA03 ,  2H047KA12 ,  2H047LA23 ,  2H047MA07 ,  2H047QA04 ,  2H047TA05