特許
J-GLOBAL ID：200903063140028948
磁性膜フレークの除去方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-020152
公開番号（公開出願番号）：特開平5-020683
出願日： 1991年02月13日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、ディスク上に磁性膜を形成する場合に適用して磁性膜フレークを容易に除去することを目的とする。【構成】 スパッタ室において磁性膜を形成した後にディスクとディスクホルダを消磁し、ディスクとディスクホルダに清浄気体を吹き付ける。【効果】 本発明によれば、基板にスパッタすることによりスパッタ室などに生じるダスト状の磁性膜フレークをディスクとディスクホルダから容易に除去することができる。よって、清浄な状態のディスクを後工程に送ることができ、後工程の歩留りが向上する。
請求項（抜粋）：
ディスクを備えたディスクホルダをスパッタ室に移動させ、スパッタ室に設けたターゲットの粒子をディスク上に堆積させてディスク上に磁性膜を形成し、磁性膜の形成後にスパッタ室からディスクを取り出して磁気記録媒体を得る方法において適用される磁性膜フレークの除去方法であって、ディスク上に磁性膜を形成した後にディスク全体を電磁石で消磁し、消磁後にディスク表面に清浄気体を吹き付けてディスク上の磁性膜フレークを除去することを特徴とする磁性膜フレークの除去方法。
IPC (4件)：
G11B 5/84
, C23C 14/34
, C23C 14/56
, C23C 14/58
