特許
J-GLOBAL ID：200903063142986644
イオン注入装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川瀬 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-309287
公開番号（公開出願番号）：特開平11-126576
出願日： 1997年10月22日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
要約：
【要約】【課題】 大面積イオンビームを質量分析して不要イオンを除いて対象物に照射し対象物は並進運動だけで全面にイオンビームを均一に注入できるようにしたイオン注入装置を与える事。【解決手段】 磁気シールドしたイオン源において縦長断面の大面積イオンビームを発生させ、ギャップの大きな複数のコイルを左右の枠に卷いているウインドウ・フレーム型のマグネットによりイオンビームを短辺方向に90度近くの大きい中心角をなすように一様に曲げ、縦長開口を持つスリット板を通して不要イオンをのぞき、ビーム短辺方向に並進運動する対象にイオンビームを照射する。
請求項（抜粋）：
縦長のイオン引出口を持ち縦長帯状のイオンビームを生成するイオン源と、ロの字型断面を持ち長手方向に彎曲した強磁性体のヨークとヨークの彎曲した内側の枠にビーム進行方向に平行に卷き廻した複数のコイルとヨークの彎曲した外側の枠にビーム進行方向に平行に卷き廻した複数のコイルとよりなるマグネットと、マグネットより後にビーム軌跡上に設けられる縦の長穴を有するスリット板と、対象物をビーム断面の短辺方向に並進運動させるように対象を保持する機構とよりなり、複数のコイルの電流を調整して前記ヨークの内部に縦方向のほぼ一様な磁場Byを生成し、イオン源から縦長の断面を有する帯状のイオンビームを発生させ、ヨーク内を通して、縦磁場によってビームの断面の短辺方向にイオンビームを彎曲させ、スリット板の長穴を通して不要イオンを除去し、イオンビームを対象物に照射するようにしたことを特徴とするイオン注入装置。
IPC (3件)：
H01J 37/317
, C23C 14/48
, H01L 21/265
H01J 37/317 A
, C23C 14/48 Z
, H01L 21/265 603 C
