特許
J-GLOBAL ID：200903063145263490
レーザー照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-103736
公開番号（公開出願番号）：特開平5-283356
出願日： 1992年03月30日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：
【要約】【目的】 照射位置制御の精度が良好であって、しかも被照射体を移動・停止させるための時間をむだにせず、速やかに生産性高く処理を行うことを可能としたレーザー照射装置を提供する。【構成】 半導体ウェハ等の被照射体1の一部にレーザー照射を行い、次いで被照射体1の他の一部にレーザー照射を行う操作を連続して、少なくとも複数回のレーザー照射を被照射体1に対して行うとともに、被照射体1はレーザー照射部に対して相対的に継続して移動させ、被照射体1のレーザー照射位置1a〜1eがレーザー照射部に対応した時にレーザーパルスを発光する構成としたレーザー照射装置。
請求項（抜粋）：
被照射体の一部にレーザー照射を行い、次いで被照射体の他の一部にレーザー照射を行う操作を連続して、少なくとも複数回のレーザー照射を被照射体に対して行うレーザー照射装置において、被照射体はレーザー照射部に対して相対的に継続して移動させ、被照射体のレーザー照射位置がレーザー照射部に対応した時にレーザーパルスを発光する構成としたレーザー照射装置。
IPC (2件)：
H01L 21/268
, H01L 21/324
