低級オレフィンの製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：鈴木俊一郎 , 牧村浩次 , 高畑ちより , 鈴木亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-341096
公開番号（公開出願番号）：特開2005-104912
出願日： 2003年09月30日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：

【課題】ジメチルエーテル、メタノールまたはこれらの混合ガスをゼオライトに接触させることによりC2〜C4オレフィンを含む炭化水素生成物を得る低級オレフィンの製造方法において、ゼオライト触媒の永久失活を促進することなくその再生周期を長くすることができる低級オレフィンの製造方法を提供する。【解決手段】 MFI構造を有するゼオライトに、ジメチルエーテル、メタノールまたはこれらの混合ガスからなる原料ガスとともに炭酸ガスを供給して、該炭酸ガスの存在下で原料ガスをゼオライトに接触させる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ジメチルエーテル、メタノールまたはこれらの混合物からなる原料ガスをゼオライトに接触させることによりC2〜C4オレフィンを含む炭化水素生成物を得る低級オレフィンの製造方法であって、 MFI構造を有するゼオライトに、前記原料ガスとともに炭酸ガスを供給して、該炭酸ガスの存在下で前記原料ガスを前記ゼオライトに接触させることを特徴とする低級オレフィンの製造方法。

IPC (2件)：

C07C1/24 , C07C11/02

FI (2件)：

C07C1/24 , C07C11/02

Fターム (11件)：

4H006AA02 , 4H006AC29 , 4H006BA71 , 4H006BC18 , 4H006BC31 , 4H006BE41 , 4H006DA25 , 4H006DA30 , 4H039CA20 , 4H039CG10 , 4H039CL25

引用特許：

出願人引用 (3件)

米国特許第3,931,349号明細書
特開昭56-16422号公報
特開昭59-118723号公報

審査官引用 (7件)

特開昭51-122003
特開昭57-059819
特開昭59-118723

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