特許
J-GLOBAL ID：200903063149421197
局在化されたブラッグ格子を半導体の中に組み込むための方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川口 義雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-345373
公開番号（公開出願番号）：特開平9-189805
出願日： 1996年12月25日
公開日（公表日）： 1997年07月22日
要約：
【要約】【課題】 少なくとも一つの局在化されたブラッグネットワークを備えた装置を提供すること。【解決手段】 格子の位置を限定する樹脂マスク(7)の部分から間隔をあけて、第二のマスク(E)を通して補足的な照射を行うことからなる。
請求項（抜粋）：
局在化された少なくとも一つのブラッグ格子を半導体コンポーネントの中に作成するための方法であって、コンポーネントの一面上に置かれたエッチングマスク(6、7)を通してこの面を湿式エッチングする段階を備えており、このマスク(6、7)は、前記格子のパターンを定めるホログラフィ照射段階後に現像される感光性樹脂の層で形成されており、前記のホログラフィ照射段階の前にまたは後に、もしくはその前後に、樹脂層から間隔をあけて第二のマスクを置いた後に前記面の補足照射段階が行われ、該第二のマスクは、前記格子の位置を限定する部分(E)を有しており、前記部分(E)のうち、少なくとも樹脂層の方に向いている面が反射面であることを特徴とする方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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